竊取臺積電2nm核心技術 高檢署再揪出1內鬼今起訴求刑8年

中國臺灣高檢署偵辦臺積電2nm核心關鍵技術竊密案，查出前工程師陳力銘跳槽日商TEL公司后，為得知「蝕刻機臺」量產測試數據，買通時任工程師吳秉毅、戈一平竊取參數配方，去年依違反國安法起訴名3名工程師，分別求處重刑；檢方偵辦期間，臺積電另名陳姓員工竊取核心技術給陳力銘，且TEL盧姓員工也有湮滅證據，今對3人及TEL追加起訴。

起訴指出，陳力銘偵查中坦承犯行，主動供出陳姓共犯，讓檢方順利查獲陳男，因此求處7年徒刑，如法院認為符合國安法減輕其刑規定，建請依法減刑。陳姓員工犯后態度欠佳，求處有期徒刑8年8月。

盧姓員工知悉被告陳力銘遭臺積公司發覺犯行后，為圖卸責，刪除陳力銘上傳的相關檔案，有妨害刑事案件調查的行為，且犯后否認犯案，求處1年徒刑。東京威力公司于本案查證過程中，均依檢察官要求提供相關事證，配合調查，對厘清案情尚有助益，求處罰金2500萬元。

高檢署指出，檢察官在偵辦期間，為厘清TEL是否符合國安法第8條第7項所稱「盡力為防止行為」的要件，查發覺該公司于云端硬碟內，尚存有臺積國家核心關鍵技術項「項次19」，也就是「14nm以下制程之IC制造技術及其關鍵氣體、化學品及設備技術」等營業秘密資料，清查是陳姓員工所竊取。

高檢署去年11月10日，指揮調查局新竹市調查站，前往云林、臺南搜索陳姓員工住居所，向法院聲請羈押禁見獲準。