芯片供應鏈國產率：光刻機1%，EDA 5%，涂膠顯影機5%，光刻膠7%
眾所周知，在芯片產業鏈上，其實全球是分工協作，充分發揮著全球一體化作用的，比如EDA看美國，半導體材料看日本，光刻機看ASML……
但美國卻在其中，不斷的使用禁令，割裂芯片供應鏈，讓芯片產業實現不了全球一體化，以達到自己在芯片上壟斷全球、收割全球的目的，比如不準ASML的EUV光刻機賣到中國大陸，不準先進工藝的設備，賣到中國大陸……
所以我們發展芯片產業，與其它親美的國家和地區不一樣，別的地區可以依賴全球的產業鏈，來發展自己的，EDA、光刻機、設備、材料等都不受限。
而我們則必須整個國產產業鏈崛起，實現國產替代，只要一些關鍵環節無法實現國產替代，就會被卡脖子。
那么當前在比較重要的環節，我們的國產替代率，究竟達到了多少，哪個環節國產率最低，哪些環節國產率最高？
芯片制造分為三個主要環節，分別是設計、制造、封測。其中封測由于門檻相對較低，所以基本上我們已經能夠實現國產替代，不怕被卡脖子。
但在設計與制造方面，國產化方面，卻還是有一點距離的。如上圖所示，這是同花順發布的一份報告中的圖片。
在設計領域，不說架構、IP等，僅設計芯片的EDA工具，國產替代率就僅為5％左右，另外的95％還得依賴國外的EDA。
而在制造領域，半導體設備這一塊，像關鍵的光刻機，國產替代率僅為1％，涂膠顯影機的國產替代率僅為5％，其它各設備，絕大部分的國產替代率均在10％以下，只有單晶爐達到了30％。
而在半導體材料這一塊，大家發現光刻膠國產替代率只有7％，掩膜板只有10％，電子特氣也只有12％，絕大部分材料的國產替代率僅在20％上下。
可見，在設計、制造這一塊，國產替代率還有很大的提升空間。正如前面所言，也許其它的國家和地區，不需要和美國對抗，不需要什么產業鏈都靠自己，依托全球先進的產業鏈即可。
但我們可不行，必須各方面都崛起，才能在芯片上不被卡脖子，所以大家加油吧，要走的路還有很長，還需要艱苦奮斗。
