EUV 光刻機耗能巨大，3 年后臺積電將吃掉中國臺灣 12% 電力

據彭博社報道，ASML 新一代 EUV 光刻機每臺耗電約 1 百萬瓦，約為前幾代設備的 10 倍，依賴該設備生產芯片的三星、臺積電等芯片制造大廠能源消耗巨大，芯片行業(yè)可能成為減少全球碳排放的重要絆腳石。

 

報道稱，臺積電擁有業(yè)界最多的 80 臺 EUV 設備，而且正在安裝新一代設備，是吃電大戶，預計 2025 年將占中國臺灣省整體能源消耗的 12.5%，較 2020 年的 6% 高一倍還多。除了臺積電外，美光在中國臺灣也使用至少一種 EUV 設備。彭博分析師 Charles Shum 預估，在 3 年內，臺灣代工廠四分之一的芯片制造都需要 EUV 設備。

臺積電生產對于環(huán)境的影響程度，主要取決于發(fā)電來源。業(yè)內人士指出，中國臺灣有許多需要運行如此高耗能設備的芯片廠，使得可再生能源變得重要和緊迫，但臺灣卻嚴重依賴化石燃料。據報道，中國臺灣 2016 年制定一個目標，到了 2025 年，其中 20% 電力來自可再生能源。然而，從 7 月的最新能源審查顯示，截至 2021 年底，只有 6% 電力來自可再生能源，促使其下調 2025 年的目標至 15%。

整體來說，雖然有機會找到用更環(huán)保的方式制造芯片，但沒有任何廠商愿意放慢腳步。