不過大家都清楚，與全球頂尖水平相比，目前國內在芯片上要補的課還有很多，從全產業鏈來看，不管是上游的材料、EDA、IP，設備，還是中間的制造等，都差得遠。
特別是在芯片制造方面，臺積電、三星已經搞定了3nm，而中國大陸最先進的水平還處于14nm，離3nm之間，還有10nm、7nm、5nm，相差整整4代。
而這4代的差距，就算沒有任何限制，甚至臺積電、三星還在原地踏步等著我們來追，也至少需要5年以上的時候來追趕，更何況現在限制還非常多。
不過說實話，我們現在其實不需要像臺積電、三星一樣，往3nm、2nm這么尖端的方面去拼，只要搞定7nm，那就啥都不用怕了，可以生產全球至少90%以上以的芯片，那就怕什么卡脖子？
按照2021年的數據，全球28nm及以上工藝的芯片，占全球芯片產量的76%，而28nm以下，也就是14nm及以下的芯片，占全球芯片產量的24%。
而這24%的比例中，7nm以下的芯片，也就是5nm，4nm等，占比不到10%，另外的全是14nm、10nm、7nm等。
也就是說，如果能夠生產7nm的芯片，搞定90%以上的芯片不在話下。
事實上，目前也就只有手機芯片、部分GPU、CPU用到7nm以下的芯片，蘋果、華為、高通、聯發科等手機芯片用到了5nm、4nm，還有AMD、NVIDIA的CPU、GPU用到了5nm、4nm等，其它的芯片全是7nm及以上的。
而7nm的手機芯片，比如高通驍龍870等，一樣性能非常棒，還有7nm的CPU、GPU等，性能也足夠，是可以滿足市場需求的。
那么問題來了，我們能夠搞定7nm么？短期來看，還真的不行，畢竟EUV光刻機、半導體設備等，支持14nm以下制程的都被禁了。
但是7nm不一定非得用EUV光刻機，經過多次曝光后，DUV光刻機也可以用于7nm，比如臺積電第一代7nm，就沒有采用EUV光刻機，第二代才稱為EUV 7nm。
另外很多的國產半導體設備，也達到了14nm的檔次，還在不斷的進步，所以再努努力，我們的制造水平，還是真的有希望實現7nm的，目前芯片工藝非常難前進，快要達到物理極限了，這是我們的機會，可以縮小與臺積電、三星的差距，真實現了7nm，那時候就卡不住我們脖子了。
