一臺(tái)EUV光刻機(jī)，年耗電1000萬度，臺(tái)積電也要心痛電費(fèi)

在絕大多數(shù)人的認(rèn)知中，決定芯片工藝的，是EUV光刻機(jī)，是技術(shù)，畢竟7nm及以下工藝，必須要用EUV光刻機(jī)，如果ASML不賣給你，就“巧婦難為無米之炊”。

但大家有沒有想過，電力其實(shí)也是半導(dǎo)體競(jìng)爭的重要一環(huán)？如果供電跟不上，空有EUV光刻機(jī)，空有技術(shù)，也沒戲。

EUV有多耗電？由于EUV光源的能源轉(zhuǎn)換效率只有 0.02% 左右，所以輸出功率只有250W的EUV光刻機(jī)，實(shí)際需要0.125萬千瓦的電力，耗電量是DUV光刻機(jī)的10倍以上。

這樣下來，一臺(tái)EUV一年耗電量可達(dá)到1000萬千瓦時(shí)。更重要的是，EUV光源能量轉(zhuǎn)換率為0.02%，另外的99.98%電能會(huì)變成熱量散發(fā)出去，又需要大量的設(shè)備來降溫散熱，這又要耗電。

臺(tái)積電的數(shù)據(jù)顯示，2021年能源消耗量為191.9億度，約占臺(tái)灣的7.2%。而深圳有1800萬深住人口，2021年居民用電量也僅為165.5億度左右，這就是說臺(tái)積電的耗電量，可以讓深圳的居民用一年。

而臺(tái)積電2021年擁有EUV光刻機(jī)近80臺(tái)，這80臺(tái)EUV光刻機(jī)直接用電8億度，再加上間接用量（散熱等設(shè)備），僅光刻機(jī)相關(guān)用量就超過10億度，占到這191.9億度電的5%+。

考慮到臺(tái)積電還在不斷的推進(jìn)5nm、3nm，需要更多的EUV光刻機(jī)，未來這個(gè)耗電量還會(huì)增加。

所以目前臺(tái)灣省內(nèi)很多媒體，對(duì)臺(tái)積電也不太滿，覺得島內(nèi)對(duì)臺(tái)積電扶植過度了，畢竟臺(tái)灣省幅員狹小、能源有限，而臺(tái)積電高耗電、高耗水量，對(duì)居民用電、電水造成了緊張。

同時(shí)目前臺(tái)灣省本身資源緊張，電力供應(yīng)緊張，新增的電量，很多往臺(tái)積電傾斜了，還未必能夠滿足臺(tái)積電未來產(chǎn)能擴(kuò)張的需求，讓大家對(duì)未來擔(dān)憂。

為此，臺(tái)積電也在努力想辦法，比如自己去買電廠，解決供電問題，還直接與一些電站簽訂采購合同，確保電力供應(yīng)，甚至還不得不將產(chǎn)能轉(zhuǎn)移至美國等地，緩解供電危機(jī)，但一年190多億度電，需要100多億元的電費(fèi)，讓臺(tái)積電也是很頭痛。

并且很明顯，未來隨著工藝越來越先進(jìn)，EUV光刻機(jī)越來越多，耗電量越來越大，電力也會(huì)成為半導(dǎo)體的競(jìng)爭力了……電力供應(yīng)跟不上，半導(dǎo)體產(chǎn)能和競(jìng)爭力也會(huì)受影響。