EDA工具全面國產化，美國以EDA限制中國芯片的圖謀徹底破滅

《第一財經》報道指華為芯片業務部門聯合國內EDA企業，打造了一批國產EDA工具，在14納米工藝以上已全數以國產EDA工具替代，這打破了美國以EDA工具遏制中國芯片發展的圖謀。

《第一財經》報道指華為公司“難題揭榜”火花獎專家座談會上，華為創始人強調在過去三年時間已完成13000顆器件的替代開發，由此在芯片國產化方面取得了重大進展，而隨后華為輪值董事長徐直軍指出華為海思已在更深層次展開芯片開發過程國產化。

徐直軍指出華為海思環繞著硬件開發、芯片開發等方面積極尋求以國產開發工具替代，已實現了78款工具的國產替代，其中之一就是EDA，EDA工具是芯片開發的重要工具，芯片設計企業以EDA工具開發芯片設計圖，設計圖交給芯片代工廠后，芯片代工廠再以同樣的EDA工具解釋交給光刻機等設備，如此芯片才能生產出來。

此前全球EDA工具主要由美國提供，美國三大EDA企業Cadence、Synopsys、Mentor Graphics占據全球EDA市場近八成的市場份額，美國此前正是試圖依靠EDA工具的壟斷優勢，限制美國EDA企業為中國提供相關的EDA軟件遏制中國芯片的發展。

如今華為全面采用國產EDA工具替代美國EDA，證明國產EDA工具已具有足夠的實力，可以滿足芯片設計的需求，凸顯出國產EDA工具的快速發展；而且這不僅僅是芯片設計企業大舉采用國產EDA工具，還推動著芯片制造企業采用國產EDA工具，據業界人士指出三星、臺積電都已大舉采用中國的EDA工具軟件，顯示出中國EDA工具開始走向世界。

EDA工具只是中國芯片取得突破的一個縮影，這幾年美國所采取的每個措施，中國都迅速采取相應的措施應對。美國限制美國芯片為中國供應射頻芯片、模擬芯片、GPU芯片，中國就迅速研發出相應的芯片，以國產芯片替代。

美國拉攏日本、荷蘭限制對中國供應光刻機、光刻膠等芯片設備和材料，中國芯片設備行業就積極推進國產光刻機、光刻膠替代，據稱芯片制造八大環節，國產芯片已在七大環節突破到14納米，刻蝕機、光刻膠都進展到5納米，光刻機雖然仍然面臨困難，但是預計一兩年內就能進展到28納米乃至14納米。

如今加上EDA工具，國產芯片產業鏈已基本上形成了完整的芯片產業鏈，在全球諸多經濟體中，中國應該是唯一一個擁有完善芯片產業鏈的經濟體，實現了芯片設計、芯片制造的自主化，凸顯出中國芯片行業的扎實基礎。

可以說這幾年美國的做法激發了中國芯片行業的巨大潛力，中國芯片行業群策群力，發揮各自的優勢，形成合力，最終打造了如今完善的產業鏈。由于中國的產業鏈發展，也讓美國芯片行業做出了不同的選擇，NVIDIA、新思科技、泛林集團等紛紛為中國定制芯片產品，繞開美國的限制，確保從中國市場獲得收入。

美國富豪比爾蓋茨一再強調美國的做法無法阻擋中國開發強大的芯片，如今中國芯片取得的成績印證了這一點；隨著中國芯片的發展，美國芯片已蒙受了巨大的損失，Intel、美光陷入虧損，諸多美國芯片企業營收下滑，導致它們在2022年損失了1.8萬億美元市值，可以說美國真的是搬起石頭砸自己的腳。