韓企研發(fā)出石墨烯EUV光罩保護(hù)膜，能大幅度提高5nm芯片良率

近日，韓媒報道稱，韓國企業(yè)石墨烯實(shí)驗(yàn)室 (Graphene Lab) 開發(fā)出了基于石墨烯制造的EUV光罩保護(hù)膜 (Pellicle) 。

而使用這種EUV光罩保護(hù)膜后，在使用EUV光刻機(jī)進(jìn)行芯片的生產(chǎn)時，有望顯著提高生產(chǎn)芯片的良率。

一時之間，引發(fā)無數(shù)人的關(guān)注，畢竟良率現(xiàn)在是懸在臺積電、三星等晶圓廠身上的利劍，并且是工藝越先進(jìn)，良率越低。

比如之前就有媒體報道稱，三星的5nm、4nm工藝，其良率低到離譜，甚至只有30%左右，讓高通都受不了了，不得不轉(zhuǎn)單臺積電。

而一旦能夠大幅度提升良率了，像三星這樣的晶圓廠豈不是求著買？提升良率就是降低成本，提升競爭力啊。

那么問題來了， 石墨烯EUV光罩保護(hù)膜到底是什么膜，為何會有這個效果？

我們知道，在芯片制造中，EUV光刻機(jī)的作用是將光掩膜板上的電路圖，通過EUV光線，刻錄到涂了光刻膠的硅晶圓上。

這是至關(guān)重要的一部分，光掩膜板也是芯片流片中最貴的一部分，一個7nm的光掩膜板成本迅速升至1500萬美元。

而光掩膜板上面，有一層保護(hù)膜，保護(hù)光罩表面免受空氣中微分子或污染物的影響，以及保護(hù)當(dāng)EUV光線刻錄時帶來的影響。

以有這層膜用的是硅材料制造的，現(xiàn)在韓企用的是石墨烯來制造這次保護(hù)膜，也就是石墨烯EUV光罩保護(hù)膜。

石墨烯性能更好，能承受更高的溫度，同時有更高的硬度，更佳的透度，所以當(dāng)EUV光線進(jìn)行光刻時，能夠降低誤判，從而提升良率。

Graphene Lab表示，他們的這種石墨烯EUV光罩保護(hù)膜很快就會量產(chǎn)，如果真的這么神奇，那么像三星、臺積電、intel等廠商肯定會搶著要，那當(dāng)前的光罩保護(hù)膜市場，甚至晶圓市場格局都可能會因此而改寫。