半導(dǎo)體設(shè)備廠商業(yè)績創(chuàng)新高，全因吃了高光期投資建廠的紅利？

2022年成為半導(dǎo)體景氣度分水嶺，A股行業(yè)上市公司業(yè)績的高歌猛進(jìn)狀態(tài)戛然而止。據(jù)證券時報記者最新統(tǒng)計，2022年半導(dǎo)體行業(yè)上市公司整體營收規(guī)模或出現(xiàn)2009年以來首次縮減，全行業(yè)去庫存緩慢推進(jìn)中。

不過，隨著晶圓廠擴(kuò)產(chǎn)以及國產(chǎn)自主可控進(jìn)程加速，半導(dǎo)體設(shè)備公司業(yè)績維持高速增長，分立器件以及半導(dǎo)體制造環(huán)節(jié)的毛利率穩(wěn)步提升。


半導(dǎo)體行業(yè)營收增速下降

截至記者發(fā)稿，申萬半導(dǎo)體上市公司披露2022年年報，營業(yè)收入規(guī)模合計實(shí)現(xiàn)約3827億元，同比下降約4%，成為2009年以來首次下降；歸屬母公司股東凈利潤（簡稱凈利潤）合計518億元，同比下降約兩成。

今年一季度，半導(dǎo)體行業(yè)盈利尚未出現(xiàn)根本改觀。已經(jīng)披露一季報的上市公司中，不足三成公司實(shí)現(xiàn)凈利潤同比增長。個股中，芯原股份凈利潤去年實(shí)現(xiàn)4.55倍增長，但一季度同比下降近23倍，成為業(yè)績變動幅度最大個股；相比，盛美上海凈利潤以同比29倍增速問鼎，其次是滬硅產(chǎn)業(yè)和拓荊科技，分別增長近8倍和超5倍。

分板塊看，去年半導(dǎo)體設(shè)備、半導(dǎo)體制造凈利潤規(guī)模同比增長。其中，半導(dǎo)體設(shè)備彰顯了極強(qiáng)抗周期增長特性，整體凈利潤同比增長接近七成。板塊個股中，拓荊科技凈利潤實(shí)現(xiàn)超四倍增長至3.69億元，芯源微、盛美上海、華海清科、長川科技等實(shí)現(xiàn)了翻倍增長。

作為A股半導(dǎo)體設(shè)備龍頭，北方華創(chuàng)去年凈利潤增長1.18倍至23.53億元，并且預(yù)計今年一季度實(shí)現(xiàn)盈利5.6億元~6.2億元，同比增長171.24%~200.3%，增速將進(jìn)一步提升。


全球半導(dǎo)體設(shè)備銷售額再創(chuàng)新高

近日，SEMI發(fā)布的《全球半導(dǎo)體設(shè)備市場報告》指出，2022年全球半導(dǎo)體制造設(shè)備出貨金額相較于2021年的1026億美元增長5%，創(chuàng)下1076億美元的歷史新高。

雖然2022年中國大陸的半導(dǎo)體設(shè)備投資額同比放緩5%，為283億美元，但依舊連續(xù)3年成為全球最大的半導(dǎo)體設(shè)備市場。中國臺灣地區(qū)連續(xù)第四年穩(wěn)定增長，排名上升至第二，2022年增長8%，達(dá)到268億美元。韓國則因?yàn)榇鎯π酒袌霾痪皻猓恰K海力士等廠商的生產(chǎn)放緩，導(dǎo)致設(shè)備銷售額大幅下降14%，為215億美元，排名第三。歐洲的半導(dǎo)體設(shè)備投資卻激增93%，北美增長了38%。世界其他地區(qū)和日本的銷售額分別同比增長34%和7%。

SEMI總裁兼首席執(zhí)行官Ajit Manocha表示：“2022年半導(dǎo)體制造設(shè)備銷售額創(chuàng)下歷史新高，源于產(chǎn)業(yè)努力增加所需的晶圓廠產(chǎn)能，以支持包括高性能計算和汽車在內(nèi)的關(guān)鍵終端市場的長期增長和創(chuàng)新需求。”

SEMI在《300mm晶圓廠展望報告》中預(yù)測，在2021和2022年強(qiáng)勁增長后，由于內(nèi)存和邏輯元件需求疲軟，預(yù)計今年300mm晶圓廠產(chǎn)能擴(kuò)張將放緩。2023年全球晶圓廠設(shè)備支出預(yù)計將從2022年創(chuàng)紀(jì)錄的980億美元，同比下降22%，至760億美元，到2024年會有所復(fù)蘇，同比將增長21%，至920億美元。


3大半導(dǎo)體設(shè)備機(jī)會剖析

光刻設(shè)備

也就是光刻機(jī)，是制造芯片的核心裝備之一，用于將掩模版上的電路圖形通過曝光的方式轉(zhuǎn)移到晶圓上，類似于相片的沖印。

由于技術(shù)含量極高，光刻機(jī)也就成為了成本極高，單臺價值含量超高的半導(dǎo)體設(shè)備，而且制程越先進(jìn)，價格越高，關(guān)鍵是全球能生產(chǎn)7nm以下先進(jìn)制程光刻機(jī)，只有荷蘭的阿斯麥公司，獨(dú)此一家，別無分店，想買人家還不一定賣。

結(jié)果就是中國光刻機(jī)層面的國產(chǎn)替代需求非常大，但限于技術(shù)差距，國產(chǎn)替代率又比較低，現(xiàn)在即使想買，也因?yàn)檎卧蛸I不了。

好在國內(nèi)企業(yè)也在努力的做突破，中科院光電所研發(fā)出 365nm 波長的近紫外光 DUV 光刻機(jī)設(shè)備。上海微電子已有生產(chǎn)前道90nm制程的光刻機(jī)，后道先進(jìn)封裝光刻機(jī)也已經(jīng)實(shí)現(xiàn)出貨。

當(dāng)然了，就不說要相比阿斯麥了，相比 AMAT，泛林半導(dǎo)體，東京電子等巨頭都還要遙遠(yuǎn)的距離，路漫漫兮。

只是換個角度思考：自主化程度越低，意味著后續(xù)自主化替代空間越大，在未來很多年，光刻機(jī)設(shè)備都有足夠大的國產(chǎn)替代空間。


刻蝕設(shè)備

刻蝕跟光刻環(huán)節(jié)類似，主要作用也是轉(zhuǎn)移掩模版上的圖形到晶圓上，很多人搞不清楚差別。

簡單說，光刻機(jī)就是把電路圖描繪至覆蓋有光刻膠的硅片上，而蝕刻機(jī)的作用就是按照光刻機(jī)描繪的電路圖把硅片上其它不需要的光刻膠腐蝕去除，完成電路圖的雕刻轉(zhuǎn)移至硅片表面。

可以簡單粗暴理解為光刻機(jī)是設(shè)計者，蝕刻機(jī)是執(zhí)行者，兩者相互配合，最終將完整的電路圖蝕刻到硅晶圓上。

相比光刻機(jī)，蝕刻機(jī)的技術(shù)難度低一些，但同樣具有非常高的技術(shù)含量，而且在整個半導(dǎo)體體系中，它的價值含量不比光刻機(jī)低，尤其是隨著 3D NAND 的大發(fā)展，蝕刻機(jī)的設(shè)備的價值含量越來越大。

相比光刻機(jī)被死死卡住脖子，蝕刻機(jī)國內(nèi)已經(jīng)有非常大的突破了，中微公司，北方華創(chuàng)，嘉芯 半導(dǎo)體等企業(yè)，都在行業(yè)里占有一席之地，整體國產(chǎn)化率達(dá)到了 20%，未來國產(chǎn)化率有望達(dá)到70%以上！未來的成長空間依然足夠?qū)拸V。


薄膜設(shè)備

薄膜沉積，簡單來說，就是在半導(dǎo)體的主要襯底材料“硅”上鍍一層膜，當(dāng)然，實(shí)際上不是鍍上去了，反而是從里面生長出來的，具體比較復(fù)雜就不展開了，總之這也是非常關(guān)鍵的一道工序就對了。

目前薄膜沉積工藝主要有分三種技術(shù)路線：原子層沉積(ALD)、物理式真空鍍膜(PVD)、化學(xué)式真空鍍膜(CVD)等，其中ALD又屬于CVD的一種，是目前最先進(jìn)的薄膜沉積技術(shù)。

薄膜沉積的價值含量僅次于刻蝕設(shè)備，比光刻設(shè)備還高，國內(nèi)做這塊的公司主要是北方華創(chuàng)和拓荊科技，其中拓荊科技在 CVD 領(lǐng)域，北方華創(chuàng)在 PVD 領(lǐng)域都已經(jīng)有了一定的市場份額。此外，中微公司，盛美上海，萬業(yè)企業(yè)等公司的產(chǎn)品也正在薄膜沉積領(lǐng)域布局，但薄膜設(shè)備整體的國產(chǎn)化率依然較低，2021 年在 10%左右。

長期來看，薄膜沉積設(shè)備領(lǐng)域的成長空間也足夠廣闊。

除了這幾個重要的環(huán)節(jié)，其實(shí)國產(chǎn)的設(shè)備廠商，目前已經(jīng)幾乎覆蓋所有的前道環(huán)節(jié)了，這自然要感謝川寶了，是他生生加速了中國的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)自主化的，也給了市場一個十年級別的投資方向。

當(dāng)然了，要說明的是，半導(dǎo)體設(shè)備，乃至整個半導(dǎo)體的國產(chǎn)替代化空間毫無疑問是巨大的，但同時，受限于半導(dǎo)體設(shè)備，以及再上游的半導(dǎo)體材料及零部件的國產(chǎn)化問題和技術(shù)含量，國產(chǎn)替代化過程注定是一個比較漫長的過程，很難一蹴而就。