三星第二代3nm芯片又來了，已領先臺積電2代？
眾所周知，去年6月份的最后兩天，三星發布了自己的3nm工藝，并且采用了當前最先進的GAA晶體管技術，算是實現了自己2022年上半年量產的承諾，也提前臺積電半年量產，領先了一回。
不過雖然3nm芯片是量產了，但坦白說，卻量產了個寂寞，因為沒有看到任何一顆量產的3nm芯片推出來，也沒有任何一顆3nm與4nm或5nm芯片的比較測試。
不過三星也表示過，3nm芯片性能比5nm提高23%，芯片尺寸縮小16%，同時由于采用了GAA晶體管技術，所以柵極電壓降低了，漏電流減少了，功耗低了。
但讓人沒有想到的是，在經過了這么快一年之后，三星的第一代3nm工藝都還沒整明白，究竟誰用了，有沒有客戶，訂單多少都不清楚的情況下，近日又推出了第二代工藝。
這次第二代工藝又有重大突破，這是不再是原先的GAA晶體管技術了，而是采用了更為先進的MBCFET晶體管技術（也屬于GAA"Gate-all-around"環繞柵極的一種），在第一代的GAA上又進一步優化了。
這次三星比較的不再是5nm芯片了，而是4nm芯片了，三星稱第二代3nm工藝性能將比目前的4nm制程（SF4）快22%，能效可提高34%，芯片尺寸也將縮減21%。
要知道臺積電的3nm技術，一直采用的是FinFET晶體管技術，意思就是三星的這一代3nm工藝，可以說已經是領先了臺積電兩代？
三星稱，第二代3nm制程將在2024年與臺積電的先進制程技術上展開競爭，意思就是這種技術，目前還只是亮個相，暫時不會大規模量產，真正要大規模量產，可能要到2024年去了。
事實上，三星發布了第一代3nm工藝后，外界就質疑三星的3nm工藝究竟行不行，因為媒體一直報道稱，三星的工藝良率不行，從5nm開始就非常低了，而3nm工藝可能只有20-30%。
這種良率下，IC廠都不敢找三星下單，之前高通在4nm時轉單臺積電就是一個最好的例子，所以三星的3nm，也沒有客戶，所以我們也沒看到誰推出了采用三星3nm工藝的芯片。
但如今三星再推第二代工藝，不知道這次在良率上有沒有改善，如果用這種良率與臺積電競爭，那還是比較困難的。
