美光將向日本投資5000億日元用于EUV芯片制造，2025年投產

根據路透社5月17日消息，美光宣布將向日本投資5000億日元（約合254.8億元人民幣），用于在未來幾年內在日本工廠引入EUV極紫外光刻機，生產DRAM芯片。

日本政府也對本國的半導體產業進行了一系列扶持，計劃向美光提供2000億日元的財政補助。集微網此前報道，美光在日本的工廠位于廣島，該公司將為日本引入首臺ASML EUV極紫外光刻機，可以用于生產1-gamma先進制程芯片。此前美光已經于2022年在日本成功量產1-beta 制程DRAM芯片，預計全新的EUV光刻機將于2025年在日本投入生產，用于制造1-gamma DRAM存儲芯片。

近年來，日本一直試圖努力重振本國的芯片產業，其全球市場份額已從1980年的50%降低至如今的10%。美國作為日本盟友，如今也在努力幫助日本提振芯片制造產業。