擴(kuò)大到45nm工藝？日本的半導(dǎo)體限制令，比美國(guó)還要狠

眾所周知，前段時(shí)間有媒體報(bào)道稱，美國(guó)聯(lián)手日本、荷蘭，對(duì)中國(guó)的半導(dǎo)體進(jìn)行圍堵。

后來(lái)日本在4月份，正式提出了半導(dǎo)體限制令，針對(duì)23種半導(dǎo)體設(shè)備進(jìn)行了限制，涉及到3項(xiàng)清洗設(shè)備、11項(xiàng)薄膜沉積設(shè)備、1項(xiàng)熱處理設(shè)備、4項(xiàng)光刻設(shè)備、3項(xiàng)刻蝕設(shè)備、1項(xiàng)測(cè)試設(shè)備。

當(dāng)時(shí)說(shuō)的是，最快這項(xiàng)政策可能會(huì)在7月份執(zhí)行。而昨天這項(xiàng)法規(guī)正式通過(guò)了，在7月23日起正式執(zhí)行。

被日本列入管制的這23個(gè)種類，不管對(duì)哪一個(gè)國(guó)家和地區(qū)，只要出口，都需要日本政府給的單獨(dú)許可證才能出口，日本表示，這不是特意針對(duì)哪一個(gè)特定的國(guó)家和地區(qū)，所有國(guó)家都一樣的。

但明眼人都清楚，這不可能針對(duì)美國(guó)吧，針對(duì)的當(dāng)然是中國(guó)、俄羅斯等美國(guó)要打壓的國(guó)家，因?yàn)槿毡臼敲绹?guó)的小弟，聽(tīng)的就是美國(guó)的話。

并且日本的這個(gè)限售令，與ASML的光刻機(jī)不一樣，ASML只針對(duì)先進(jìn)工藝，其浸潤(rùn)式光刻機(jī)中，只有NXT:2000i及之后的浸沒(méi)式光刻系統(tǒng)將會(huì)受到出口限制。

而像NXT:1980Di 這樣的浸潤(rùn)式光刻機(jī)，還可以出口，它可以最高用于7nm芯片的光刻。同時(shí)美國(guó)針對(duì)中國(guó)的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)，更多的還是只針對(duì)14nm以下的先進(jìn)工藝。

但是日本的這23個(gè)種類的產(chǎn)品中，已經(jīng)涉及到45nm工藝了，比ASML、美國(guó)的限售令，更為嚴(yán)格和范圍廣。

當(dāng)然，日本也沒(méi)說(shuō)不能賣，只是說(shuō)想從日本進(jìn)口這些設(shè)備，需要單獨(dú)的許可證，需要日本政府的審批才行，但能不能拿到許可證，還不是日本說(shuō)了算？

這對(duì)于中國(guó)的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)而言，將會(huì)是一個(gè)巨大的隱患，畢竟以往我們從日本進(jìn)口的半導(dǎo)體設(shè)備，就牽涉到了這23項(xiàng)中的許多項(xiàng)，以后進(jìn)口就沒(méi)這么容易了，能不能買到，都是未知數(shù)了，可見(jiàn)半導(dǎo)體設(shè)備、半導(dǎo)體材料，我們都需要獨(dú)立自主才行，依賴其它國(guó)家都不行。