中國(guó)從日本進(jìn)口的光刻膠，占比超過50%，國(guó)產(chǎn)率不足10%

近日，海關(guān)公布了感光化學(xué)品（主要指光刻膠）的相關(guān)進(jìn)口數(shù)據(jù)。

數(shù)據(jù)顯示，2023年1-6月份，我們從日本進(jìn)口的感光化學(xué)品金額為5.47億美元，同比下降9.1%，占所有感光化學(xué)品比例約為51%。

而在2022年的時(shí)候，我國(guó)感光化學(xué)品進(jìn)口總額23.50億美元，從日本進(jìn)口額12.05億美元，占比51.3%。

也就是說，最近一年多以來(lái)，中國(guó)的光刻膠進(jìn)口中，有一半多來(lái)自于日本，中國(guó)高度依賴日本的光刻膠。

事實(shí)上，不只是這一年多以來(lái)，統(tǒng)計(jì)最近10年以來(lái)，日本光刻膠進(jìn)口占比，一直就超過50%，日本一直是我國(guó)感光化學(xué)品進(jìn)口的第一大來(lái)源國(guó)。

不僅中國(guó)高度依賴日本的光刻膠，可以說全球都依賴日本的光刻膠，包括美國(guó)、韓國(guó)、歐洲等。

光刻膠是芯片光刻工藝中最主要的、最關(guān)鍵的材料。

按照種類可以分為G線光刻膠（436nm）、I線光刻膠（365nm）、KrF光刻膠（248nm）、ArF光刻膠（193nm）、EUV光刻膠（13.5nm）這么幾種。

而這幾種光刻膠對(duì)應(yīng)的芯片工藝是>0.35um、>0.35um、0.15-0.25um、7-130nm、<7nm。

很明顯，光刻膠與光刻機(jī)一樣，是一一對(duì)應(yīng)的，其中像ArF光刻膠，也分為兩種，干法主要用于130-65nm工藝，浸沒式主要用于65-7nm工藝。

而目前全球光刻膠市場(chǎng)主要被日本和美國(guó)公司壟斷，日企全球市占率約80%，處于絕對(duì)領(lǐng)先地位。

而從具體的光刻膠類型來(lái)看，在g線/i線、KrF、ArF、EUV光刻膠市場(chǎng)中，日本企業(yè)的市占率分別為61%、80%、93%，100%。

而中國(guó)這4種光刻膠的自給率約為30%、5%、1%、0%，可見基本上都要進(jìn)口，只有最為落后的g線/i線才表現(xiàn)不錯(cuò)，而越先進(jìn)的光刻膠，自給率就越低，EUV這種直接無(wú)法制造。

對(duì)此，不知道大家怎么看？在芯片制造的過程中，光刻機(jī)這樣的設(shè)備不可缺少，而光刻膠這種材料，也是不可缺少。

所以，我們?cè)陉P(guān)注光刻機(jī)等各種半導(dǎo)體設(shè)備時(shí)，也同樣應(yīng)該多關(guān)注光刻膠這種材料，只有設(shè)備、材料全突破了，才能真正不被卡脖子。