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              ASML真的慌!佳能繞開EUV,5nmNIL光刻機(jī)出貨,可惜不賣給中國(guó)

              2023-10-16 來(lái)源:科技專家
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              關(guān)鍵詞: 光刻機(jī) 中芯國(guó)際 EUV

              眾所周知,在芯片光刻機(jī)領(lǐng)域,有4大廠商,分別是ASML、佳能、尼康、上海微電子。


              其中ASML占了85%+的份額,佳能、尼康合計(jì)占了15%左右的份額,至于上海微電子,其實(shí)就是打醬油而已,份額接近于0%。


              當(dāng)然,最重要的是,用于7nm以下的EUV光刻機(jī),只有ASML能生產(chǎn),份額占了100%。



              為了壟斷EUV光刻機(jī),ASML與全球5000多家廠商達(dá)成合作,將一些關(guān)鍵技術(shù)/公司,買的買,捆綁的捆綁,讓這些核心技術(shù),無(wú)法向其它廠商供應(yīng),所以ASML在EUV領(lǐng)域,連不擔(dān)心其它廠商有突破。


              這也導(dǎo)致其它光刻機(jī)廠商,走不通EUV光刻機(jī)這條路,只能換道,比如佳能換道NIL納米壓印技術(shù)方向,俄羅斯押X射線方向,美國(guó)一些廠商,則押BLE電子束方向,歐洲一些廠商押注DSA自生長(zhǎng)方向。



              而近日,終于傳出了重磅消息,那就是佳能的NIL光刻機(jī)有了重大突破,佳能(Canon)公司發(fā)布新聞稿稱,正式開始銷售芯片生產(chǎn)設(shè)備 FPA-1200NZ2C,這種光刻設(shè)備,采用的是NIL納米壓印技術(shù),可以制造 5 nm 芯片。


              而這也是全球第一款不使用EUV技術(shù),就能夠規(guī)模制造5nm芯片的光刻技術(shù),據(jù)稱設(shè)備成本,以及制造芯片的成本,遠(yuǎn)比EUV光刻技術(shù)低很多。



              納米壓印的原因,就像印刷書本一樣,先刻一個(gè)電路板的章子,然后再印到硅晶圓上,目前這套設(shè)備,可以應(yīng)用于最小 14 平方毫米的硅晶圓,從而可以生產(chǎn)相當(dāng)于 5nm 工藝的芯片。


              佳能表示,未來(lái)NIL可以實(shí)現(xiàn)2nm芯片的制造,不再需要EUV光刻機(jī)。


              而關(guān)于NIL納米壓印,之前SK 海力士和鎧俠等存儲(chǔ)芯片制造商曾嘗試過(guò)使用,不過(guò)當(dāng)時(shí)的精度是15nm以上,且當(dāng)時(shí)效果不太好,良率低。



              不知道這次佳能的新設(shè)備如何?很明顯,如果佳能的NIL光刻機(jī),真的能夠達(dá)到5nm,且率良不錯(cuò),那絕對(duì)可以打破ASML在EUV光刻機(jī)上的壟斷,大家進(jìn)入5nm時(shí),不一定非得買ASML的設(shè)備了。


              不過(guò),大家要注意的是,佳能是不可能將這設(shè)備賣給中國(guó)大陸的,畢竟日本有針對(duì)中國(guó)芯片的禁令,14nm以下的設(shè)備,不能賣的,所以我們還得自研,日本廠商也一樣靠不住。