美國再出陰招，阻止中國發展先進芯片，外媒：一切都是徒勞
早前美國商務部副部長艾倫·艾斯特韋斯（Alan Estevez）表示光刻機等先進設備會出現故障，美國要求ASML等芯片設備企業在出口這些先進設備的零件時也應該獲得許可證，此舉針對誰不言而喻。
美國商務部副部長如此想在于他眼看著今年前9個月ASML大舉對中國出口光刻機，據了解ASML在這段時間對中國出口的光刻機已達到100臺。
9月初ASML還獲得了荷蘭的許可，對中國出口更先進的DUV光刻機2000i，由此中國大舉采購，推動三季度ASML從中國獲得的收入占比達到46%，超過了美國、韓國和中國臺灣等市場的貢獻。
不過ASML獲得的出口許可為臨時許可，有效期只是到今年底之前，據悉中國芯片制造行業趁機大舉購買，除了在當前的生產線投入這些光刻機之外，還有傳聞指囤貨備用。
光刻機也是消耗品，不僅它自身有使用壽命限制，它在日常的使用當中也需要經常進行維護和更換零部件，而這些工作都需要ASML等提供售后服務。
美國就是試圖在ASML獲得的臨時許可之后，不僅阻止ASML對中國出口這些光刻機，還希望阻止ASML為中國提供售后，借此繼續遏制中國芯片產業的發展。
不過這一切都是美國的臆想罷了，中國完全有多種辦法解決這些問題，美國采取的措施恐怕很難奏效，這些在過去數年時間，美國曾采取更嚴格的光刻機等設備出口就曾遇到過。
中國在光刻機技術方面已取得較大的進展，今年中就有消息指中國的浸潤式光刻機預計在今年底前投產，近期更有國產5G芯片的量產，這意味著中國的浸潤式光刻機已打通產業鏈。
如此情況下，即使ASML不為中國提供零部件和售后，未來中國也可以國產的零部件替代，確保現有生產線上的光刻機正常運行。
從上述國產5G芯片的量產，可以看出中國的浸潤式光刻機已實現試產，只不過國產的光刻機良率較低以及產能有限而未能滿足需求，現在生產線的光刻機可以再使用數年，這提供了足夠的時間讓中國改良國產光刻機和增加產能，數年之后國產光刻機可以完全替代進口。
中國不僅在現有的硅基芯片產業鏈上努力，加速完善國產的硅基芯片產業鏈，硅基芯片技術由美國主導，沿著這條路續只能跟隨美國的技術發展。
中國深刻明白跟隨路線無法超越，因此已在大力研發光子芯片、量子芯片等更先進的技術，中國在北京籌建了全球第一條光子芯片生產線，在合肥則籌建了一條量子芯片生產線。
在光子芯片、量子芯片技術方面，中國已與美國、歐洲處于同一起跑線，業界預計這些更先進的芯片技術將在10年內實現商用，到那時候光刻機等現有的芯片設備將被徹底拋棄，也將不再是中國芯片的障礙。
綜上，美國圖謀繼續在現有的硅基芯片設備方面限制中國芯片已不現實，中國可以繼續自研硅基芯片技術擺脫進口依賴，在更先進的光子芯片、量子芯片技術方面則會形成完全自主的技術體系，到那時候將徹底趕超美國。
