俄羅斯自研光刻機(jī)目標(biāo)：2024年量產(chǎn)350nm，2026年量產(chǎn)65nm！

11月4日消息，根據(jù)俄羅斯媒體報(bào)道指出，俄羅斯本身正在研發(fā)生產(chǎn)芯片的光刻機(jī)。俄羅斯工業(yè)和貿(mào)易部副部長Vasily Shpak在接受媒體采訪時(shí)指出，2024年將開始生產(chǎn)350nm光刻機(jī)，2026年啟動(dòng)用于生產(chǎn)130nm制程芯片的光刻機(jī)。光刻機(jī)的生產(chǎn)將在莫斯科、澤列諾格勒、圣彼得堡和新西伯利亞的現(xiàn)有工廠進(jìn)行。

Vasily Shpak指出，光刻機(jī)對(duì)于半導(dǎo)體的生產(chǎn)極為重要，當(dāng)前全球只有荷蘭ASML和日本Nikon這兩家公司能夠生產(chǎn)先進(jìn)光刻機(jī)。一個(gè)簡(jiǎn)單的邏輯就是，如果沒有半導(dǎo)體主權(quán)，那就沒有技術(shù)主權(quán)，這將導(dǎo)致國防安全和政治主權(quán)方面就非常脆弱。而現(xiàn)在俄羅斯已經(jīng)掌握了使用國外國光刻機(jī)制造65nm芯片的技術(shù)，但因?yàn)橥鈬颈唤瓜蚨砹_斯出口先進(jìn)的光刻機(jī)，所以俄羅斯也正在積極開發(fā)自己的光刻機(jī)。

Vasily Shpak表示，2024年俄羅斯將撥款2,114億盧布（約合人民幣166.16億元）用于國內(nèi)電子產(chǎn)品的開發(fā)，其將包括生產(chǎn)350nm制程芯片的光刻機(jī)，2026年將啟動(dòng)用于生產(chǎn)130nm制程芯片的光刻機(jī)。而俄羅斯決定開發(fā)350nm到65nm光刻機(jī)的原因，在于這一技術(shù)范圍內(nèi)的芯片多用于微控制器、電力電子、電信電路、汽車電子等方面上，這些應(yīng)用大約占據(jù)了整個(gè)市場(chǎng)的60%。所以，這類光刻機(jī)在全世界市場(chǎng)的需求量很大，并且將在至少10年內(nèi)有持續(xù)的需求。

另外，當(dāng)被問到可能遭遇的阻力時(shí)，Vasily Shpak說，“我不想抱怨，所有的問題都不是問題，因?yàn)檫@關(guān)系到我們擁有哪些機(jī)會(huì)，以及所設(shè)定的目標(biāo)。”