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              ASML夠意思!2024年,我們不會缺浸潤式DUV光刻機

              2024-01-22 來源:科技專家
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              關(guān)鍵詞: 三星 光刻機 芯片

              眾所周知,2024年剛開如,靴子就落地,ASML表態(tài)稱自己的兩張許可證被吊銷了,涉及的光刻機型號是NXT:2050i和NXT:2100i,ASML稱,“可能會對少數(shù)客戶帶來影響”。

              于是大家一時間就想到,中國大陸肯定買不到這兩種最先進(jìn)的光刻機了,那么可能會對中國大陸的先進(jìn)工藝造成一定的影響。

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              這么想是有道理的,因為一直以來美國的禁令,就各種針對中國,2019年禁了EUV光刻機,后來在2023年,將高端的浸潤式DUV光刻機也禁了。

              按照業(yè)內(nèi)人士的說法,浸潤式DUV光刻機,采用193nm波長光源,經(jīng)過水的折射,等效于134nm,再借助多重曝光等技術(shù),能生產(chǎn)7nm制程芯片,甚至理論上能生產(chǎn)5nm芯片。

              而目前國產(chǎn)光刻機,官宣的還還處于90nm工藝,目前我們的實際水準(zhǔn),其實達(dá)到了至少7nm工藝,所以這種浸潤式DUV光刻機,不可或缺的。

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              不過,理論上雖然如此,但由于ASML在2023年還是夠意思的,所以在2024年我們肯定是不缺浸潤式DUV光刻機的,甚至未來3-5年可能都不會缺。

              一是目前被吊銷的許可證,其實應(yīng)該早在2023年9月1日就要被吊銷的,但在ASML的努力,以及多方斡旋之下,拖了一個季度。

              二是吊銷的還只有NXT:2050i和NXT:2100i這兩款,目前ASML在售的浸潤式DUV光刻機一共有4款,還有NXT:2000i和NXT:1980Di這兩款。

              如下圖所示,這4款光刻機的分辨率是一樣的,只是產(chǎn)能不同,所以實際上都能夠?qū)崿F(xiàn)7nm,甚至理論上5nm的。

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              三是2023年ASML很夠意思,努力配合中國大陸客戶的要求,在禁令生效之前,努力“搶運”光刻機。

              2023年搶的有多猛,給大家兩組數(shù)據(jù)對比一下就明白了,2022年中國從ASML進(jìn)口的光刻機數(shù)量約為100臺,金額約為21億歐元(約170億元)。

              而2023年1-11月,中國從ASML進(jìn)口的光刻機就超過200臺,金額超過500億元,已經(jīng)是去年的3倍了。

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              ASML還稱,2023年基本上將欠中國客戶的訂單交付了,看到這里估計大家明白了,ASML顯然將光刻機產(chǎn)能中的很大一部分,優(yōu)先調(diào)配給了中國客戶,這還不夠意思?

              要知道現(xiàn)在光刻機只是全球緊缺貨物,晶圓廠們都在排隊搶,ASML能在這樣的情況之下,將產(chǎn)能向中國大陸客戶傾斜,殊為不易。

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              所以,在ASML的努力之下,2024年,我們肯定是不缺浸潤式DUV光刻機,高端的去年已經(jīng)買到了很多,相對低端一點的, 現(xiàn)在還能買,根本就不用發(fā)愁,足夠用幾年了。

              另外,從芯片發(fā)展來看,芯片的“制程”不能無限制縮小,線寬從28nm制程之后,就基本沒有再提升,所謂的5nm,并不是指芯片的最小線寬達(dá)到了5nm,而是借助架構(gòu)和工藝的提升,實現(xiàn)了“同5nm芯片一樣的能效”。

              圖片

              所以,當(dāng)我們設(shè)計改進(jìn),架構(gòu),封裝技術(shù)改進(jìn),就算用這個DUV光刻機,未必不能制造出媲美3nm工藝的芯片來,大家從更長遠(yuǎn)一點來看,也不用急。

              更何況,目前技術(shù)不斷發(fā)展,制造先進(jìn)的芯片,也不只有光刻這一條路,還有納米壓印、電子束光刻、DSA自生長等技術(shù),均處于爆發(fā)前沿了,說不定這個禁令,倒逼中國走出另外一條路來。



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