華為很清醒：別想3nm、5nm，目前7nm工藝對(duì)中國(guó)芯最重要

目前最強(qiáng)的芯片工藝，是臺(tái)積電、三星的3nm。而按照計(jì)劃，明年臺(tái)積電、三星，以及英特爾，會(huì)進(jìn)入2nm工藝。

在這樣的背景之下，很多網(wǎng)友總覺(jué)得，我們和臺(tái)積電、三星等落后太遠(yuǎn)，我們需要快速追上，也達(dá)到3nm、2nm這樣的工藝，否則就是落后了。

也在這樣的背景之下，各種真假消息不斷的傳出，一下子說(shuō)某某晶圓廠，已經(jīng)搞定了5nm，馬上就是3nm，又是說(shuō)華為下一步就是3nm……

近日，華為常務(wù)董事張平安，公開(kāi)發(fā)言稱，我們肯定是得不到3nm，肯定得不到5nm，我們能解決7nm就非常非常好。

這句話是什么意思？其實(shí)意思就是，目前的外部形勢(shì)之下，其實(shí)我們短時(shí)間之內(nèi)，是搞不定了3nm，搞定不了5nm的，能搞定7nm就不錯(cuò)了。

另外，他還說(shuō)了更為關(guān)鍵的一段話，但這句話，很多人忽略了，只關(guān)注他說(shuō)的3nm、5nm、7nm去了，他是這么說(shuō)的：“中國(guó)創(chuàng)新的方向就必須要依托于我們芯片能力的方向，我們的創(chuàng)新方向不能在單點(diǎn)的芯片工藝上，我們的創(chuàng)新方向應(yīng)該在系統(tǒng)架構(gòu)上。”

這一段話，點(diǎn)明了我們目前芯片工藝前進(jìn)的方向，那就是要基于我們當(dāng)前的真實(shí)技術(shù)水平來(lái)努力，這個(gè)真實(shí)水平指的就是最多7nm，而不是5nm、3nm。

如何在7nm工藝上努力？那就是在系統(tǒng)架構(gòu)上去努力，爭(zhēng)取將7nm工藝做到5nm，甚至3nm的水平，這個(gè)才是我們芯片前進(jìn)的方向，而不是一味的追求什么5nm、3nm、2nm……

我們知道，自芯片進(jìn)入28nm工藝之后，芯片的XX納米，其實(shí)代表的已經(jīng)不是真實(shí)的工藝水準(zhǔn)了，這個(gè)XX納米和柵極寬度，金屬半間距等，已經(jīng)沒(méi)有關(guān)系了。

這個(gè)XX納米已經(jīng)是一種等效法，即它等效于XX納米。

舉個(gè)例子說(shuō)明，我在10nm工藝上，進(jìn)行了技術(shù)、架構(gòu)、設(shè)計(jì)的改進(jìn)后，芯片制造工藝其實(shí)還是10nm，但我這么一調(diào)整后，芯片性能提升了20%，降低了20%等，這種工藝，可以認(rèn)為是10nm的下一代，也就是7nm的，這個(gè)7nm并不是真的7nm，而是等效7nm。

所以在7nm芯片的基礎(chǔ)之上，我們可以進(jìn)行架構(gòu)、設(shè)計(jì)、技術(shù)等的調(diào)整，肯定是能夠?qū)崿F(xiàn)5nm甚至3nm這樣的性能的，這也稱之為等效工藝。

華為其實(shí)就是告訴我們，現(xiàn)在不是卷5nm、3nm的時(shí)候，且基于當(dāng)前的外部形勢(shì)，我們也卷不動(dòng)，根本就獲取不到設(shè)備，比如EUV光刻機(jī)，你有辦法么？

在這樣的情況之下，大家要實(shí)事求是，基于自己現(xiàn)有的技術(shù)來(lái)創(chuàng)新，來(lái)調(diào)整方面，而不是跟著別人走，覺(jué)得臺(tái)積電、三星怎么搞，我們就要怎么搞。