ASML：中國HW/SMEE造不出EUV光刻機，不擔心競爭

眾所周知，當芯片工藝進入7nm時，還不一定需要EUV光刻機，通過DUV光刻機，進行多重曝光，也是可以生產的，只是效率稍低一點，成本稍高一點，勉強能夠接受。

但進入5nm時，就需要EUV光刻機了，因為如果繼續用DUV進行多重曝光來生產，理論上也可以生產，但相對應的，工藝會非常復雜，良率會低到嚇人，那么成本也就高的可怕，這樣的芯片是無法大規模生產的，成本高到沒法商用。

所以，這也是為何前幾天華為董事說我們拿不到5nm芯片、3nm芯片，能搞定7nm芯片就很好了的原因，因為目前中國大陸無法買到EUV光刻機，目前也沒有擁有任何EUV光刻機。

甚至全球也只有ASML一家能夠生產EUV光刻機，連日本尼康、佳能也一要無法生產EUV光刻機，ASML的市場份額高達100%。

在這樣的情況之下，我們該怎么辦？當然是沒有任何捷徑，沒有任何退路，只有自研EUV光刻機才行，否則就會一直卡在7nm工藝上，看著臺積電、intel、三星們進入3nm、2nm、1nm，這當然不行啊。

那么中國什么時候會造出EUV光刻機，會不會威脅到ASML呢？畢竟如果中國造出了EUV，那么ASML的超然地位就不存在了。

而針對這個問題，近日ASML首席財務官Roger Dassen在會議上表示，“在可預見的未來”，其在 EUV 技術領域不會面臨來自中國企業的競爭，甚至還單獨提了兩家公司，比如光刻設備公司 SMEE或HW的競爭。

當然，這個可預見的未來是多久，ASML不會說，但其話里的意思大家懂的，那就是很長很長一段時間之內，都不行。

估計很多人看了會不服，意思就是我們怎么就不行了呢，但說真的，確實很長一段時間之內，我們還真不行。

EUV光刻機非常復雜，全球有5000多家供應商，之前一直說有10萬多個零件，但其實真正的數據是有45萬多套零件，這個套其實已經是融合過的。

如果要單獨再拆開，最終可以仔細拆分成300多萬個零件，這些零件有一些全球僅一家能夠制造/生產，而這樣的廠商，很多都和ASML有獨家協議的。

比如蔡司的物鏡系統等，這些我們是無法復制，模仿的，如果我們想要造出EUV光刻機，要么將這些供應鏈整合起來，要么自己的產業鏈全部跟上造出來。

不管是整合這些供應鏈，不審自己造出來，都是不是三、五年能夠搞定的，所以這也是為何ASML說可以預見的未來，中國的EUV光刻機，都無法和ASML競爭的原因，是真的不行。

所以大家也不要氣憤，沒有意義，還是埋頭苦干吧，不說EUV，先把浸潤式光刻機造出來再說，別好高騖遠。