ASML：中國HW/SMEE造不出EUV光刻機(jī)，不擔(dān)心競爭

眾所周知，當(dāng)芯片工藝進(jìn)入7nm時(shí)，還不一定需要EUV光刻機(jī)，通過DUV光刻機(jī)，進(jìn)行多重曝光，也是可以生產(chǎn)的，只是效率稍低一點(diǎn)，成本稍高一點(diǎn)，勉強(qiáng)能夠接受。

但進(jìn)入5nm時(shí)，就需要EUV光刻機(jī)了，因?yàn)槿绻^續(xù)用DUV進(jìn)行多重曝光來生產(chǎn)，理論上也可以生產(chǎn)，但相對應(yīng)的，工藝會非常復(fù)雜，良率會低到嚇人，那么成本也就高的可怕，這樣的芯片是無法大規(guī)模生產(chǎn)的，成本高到?jīng)]法商用。

所以，這也是為何前幾天華為董事說我們拿不到5nm芯片、3nm芯片，能搞定7nm芯片就很好了的原因，因?yàn)槟壳爸袊箨憻o法買到EUV光刻機(jī)，目前也沒有擁有任何EUV光刻機(jī)。

甚至全球也只有ASML一家能夠生產(chǎn)EUV光刻機(jī)，連日本尼康、佳能也一要無法生產(chǎn)EUV光刻機(jī)，ASML的市場份額高達(dá)100%。

在這樣的情況之下，我們該怎么辦？當(dāng)然是沒有任何捷徑，沒有任何退路，只有自研EUV光刻機(jī)才行，否則就會一直卡在7nm工藝上，看著臺積電、intel、三星們進(jìn)入3nm、2nm、1nm，這當(dāng)然不行啊。

那么中國什么時(shí)候會造出EUV光刻機(jī)，會不會威脅到ASML呢？畢竟如果中國造出了EUV，那么ASML的超然地位就不存在了。

而針對這個(gè)問題，近日ASML首席財(cái)務(wù)官Roger Dassen在會議上表示，“在可預(yù)見的未來”，其在 EUV 技術(shù)領(lǐng)域不會面臨來自中國企業(yè)的競爭，甚至還單獨(dú)提了兩家公司，比如光刻設(shè)備公司 SMEE或HW的競爭。

當(dāng)然，這個(gè)可預(yù)見的未來是多久，ASML不會說，但其話里的意思大家懂的，那就是很長很長一段時(shí)間之內(nèi)，都不行。

估計(jì)很多人看了會不服，意思就是我們怎么就不行了呢，但說真的，確實(shí)很長一段時(shí)間之內(nèi)，我們還真不行。

EUV光刻機(jī)非常復(fù)雜，全球有5000多家供應(yīng)商，之前一直說有10萬多個(gè)零件，但其實(shí)真正的數(shù)據(jù)是有45萬多套零件，這個(gè)套其實(shí)已經(jīng)是融合過的。

如果要單獨(dú)再拆開，最終可以仔細(xì)拆分成300多萬個(gè)零件，這些零件有一些全球僅一家能夠制造/生產(chǎn)，而這樣的廠商，很多都和ASML有獨(dú)家協(xié)議的。

比如蔡司的物鏡系統(tǒng)等，這些我們是無法復(fù)制，模仿的，如果我們想要造出EUV光刻機(jī)，要么將這些供應(yīng)鏈整合起來，要么自己的產(chǎn)業(yè)鏈全部跟上造出來。

不管是整合這些供應(yīng)鏈，不審自己造出來，都是不是三、五年能夠搞定的，所以這也是為何ASML說可以預(yù)見的未來，中國的EUV光刻機(jī)，都無法和ASML競爭的原因，是真的不行。

所以大家也不要?dú)鈶崳瑳]有意義，還是埋頭苦干吧，不說EUV，先把浸潤式光刻機(jī)造出來再說，別好高騖遠(yuǎn)。