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              臺(tái)積電計(jì)劃年底將4nm工藝轉(zhuǎn)移到風(fēng)險(xiǎn)生產(chǎn),并于2022年量產(chǎn)

              2021-06-19 來源:美股研究社
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              6月18日消息,據(jù)報(bào)道,臺(tái)積電今年四月更新了其最新的制程工藝路線圖,其 4nm 工藝將會(huì)在2021年底進(jìn)入“風(fēng)險(xiǎn)生產(chǎn)”階段,并于2022年量產(chǎn),而3nm芯片依然是定在 2022 年下半年投產(chǎn),且2nm工藝正在開發(fā)當(dāng)中。

              知名供應(yīng)鏈媒體 DigiTimes 援引消息人士消息,臺(tái)積電先進(jìn)工藝全面提速,在持續(xù)使用大量 EUV 設(shè)備提高生產(chǎn)力與效能后,已全面鞏固在EUV的領(lǐng)先地位,受此影響,供應(yīng)鏈企業(yè)新思、應(yīng)材供應(yīng)鏈雨露均沾。

              此外,臺(tái)積電將在2021年第三季度將 N4(即5nm的加強(qiáng)版,或稱4nm)轉(zhuǎn)移到風(fēng)險(xiǎn)生產(chǎn)階段,而其N3技術(shù)開發(fā)正按計(jì)劃進(jìn)行,計(jì)劃于2022年下半年量產(chǎn)。