2026年中國濺射靶材市場規模及重點企業預測分析（圖）
2026-04-23
來源：中商產業研究院
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關鍵詞： 濺射靶材
中商情報網訊：濺射靶材是指通過磁控濺射等鍍膜系統在適當工藝條件下濺射沉積在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。濺射靶材廣泛應用于半導體集成電路、平面顯示、太陽能電池、信息存儲、低輻射玻璃等領域，是國家重點支持和鼓勵發展的行業。
市場規模
中商產業研究院發布的《2025-2030年中國濺射靶材行業前景與市場趨勢洞察專題研究報告》顯示，2025年中國濺射靶材市場規模約為33.65億元。中商產業研究院分析師預測，2026年中國濺射靶材市場規模將增至38億元。
數據來源：SEMI、中商產業研究院整理
重點企業分析
總體來看，中國濺射靶材龍頭企業已形成差異化與平臺化并進的產業格局。第一梯隊企業如江豐電子、有研新材等，憑借在超高純金屬材料領域的深厚積累，已成功切入全球半導體先進制程供應鏈，并積極向半導體精密零部件等關聯領域拓展，構建平臺化競爭力。第二梯隊企業則在顯示面板、光伏、光學等細分市場建立優勢，并通過產品多元化布局新興賽道以對沖行業周期。整體行業正從單一材料供應商向提供“材料+工藝解決方案”的綜合服務商轉型，國產化替代與向高附加值領域延伸成為共同的發展主線。
資料來源：中商產業研究院整理
