一個(gè)好消息，國產(chǎn)光刻機(jī)又有新的重大突破，一項(xiàng)關(guān)鍵的核心技術(shù)即將被解決，我們距離自己的EUV光刻機(jī)又近了一步。也怪不得ASML現(xiàn)在越來越著急了，我們所突破的光刻機(jī)技術(shù)越來越多，核心技術(shù)也有所進(jìn)展，雖然目前對ASML的并沒有多大威脅。但隨著時(shí)間流逝，ASML已經(jīng)感覺到越來越沉重的壓力了。前幾年還在說就算給我們圖紙也造不出來光刻機(jī)的ASML，今年卻一反常態(tài)，對我們開始玩起了“傾銷”。數(shù)據(jù)顯示，今年第一季度，ASML向我們出口光刻機(jī)數(shù)量21臺(tái)，占到其總銷量的34%，我們也首次成為了ASML的最大出貨市場。過去，ASML向DL出貨的光刻機(jī)數(shù)量總共也就50多臺(tái)，可以說是相當(dāng)“摳門”。結(jié)果今年光是第一季度就出貨21臺(tái)，這是想開了？不，無事獻(xiàn)殷勤，必然是沒安好心。ASML向我們出售的都是老舊型號(hào)的DUV光刻機(jī)，要么是我們能造的，要么是我們很快就能造的那種。ASML選擇這個(gè)時(shí)候出售，其實(shí)就是在變相打壓國產(chǎn)光刻機(jī)。除了向我們大量出售DUV光刻機(jī)之外，ASML還決定擴(kuò)大國內(nèi)的研發(fā)中心，計(jì)劃增加200名研發(fā)人員，并還要建造維修中心。這個(gè)投資力度說大不大，但說小也不小，實(shí)際上就是想憑借自己的優(yōu)勢把國內(nèi)的光刻機(jī)扼殺在搖籃中。雖然ASML試圖在國內(nèi)找回自己的地位，但是我們對此并不買單，畢竟上過的當(dāng)已經(jīng)好幾回了。這一次，光刻機(jī)自主化勢在必得，國內(nèi)諸多大學(xué)和研究院都在為此而努力。并且，我們已經(jīng)取得了很多的突破，相較于過去，國產(chǎn)光刻機(jī)早已今非昔比。隨著時(shí)間流失，DUV光刻機(jī)對我們而言將不再是挑戰(zhàn)，接下了EUV光刻機(jī)才是我們攻克的重點(diǎn)。EUV光刻機(jī)是制造業(yè)的皇冠，集合了西方技術(shù)結(jié)晶，零件達(dá)到十萬之多。目前，世界上也只有EUV光刻機(jī)。我們要突破EUV光刻機(jī)，其三大核心就繞不過去，分別是光學(xué)系統(tǒng)、光學(xué)鏡頭和雙工作臺(tái)系統(tǒng)。而這一次我們突破的正是光學(xué)系統(tǒng)的部分。來自港城大學(xué)電機(jī)工程系的蔡定平教授團(tuán)隊(duì)，在Science Advances發(fā)表了一篇名為《真空紫外非線性超構(gòu)透鏡》的文章，其中所記載的新型超構(gòu)透鏡，是我們突破光刻機(jī)又一大技術(shù)門檻的希望所在。EUV光刻機(jī)的光源是極紫外光，所以其實(shí)際上叫做極紫外線光刻機(jī)。而蔡定平教授團(tuán)隊(duì)研發(fā)的新型真空紫外非線性超構(gòu)透鏡，能夠產(chǎn)生和聚焦極紫外光，并能夠?qū)⒉ㄩL395nm轉(zhuǎn)化為197nm 。聚焦光點(diǎn)的功率密度比超構(gòu)透鏡高了21倍。據(jù)悉，這一突破能夠應(yīng)用于EUV光刻機(jī)之中，幫助國產(chǎn)光刻機(jī)突破技術(shù)瓶頸。并且，這一技術(shù)還屬于EUV光刻機(jī)的核心技術(shù)，對實(shí)現(xiàn)EUV光刻機(jī)自主有重大意義。寫在最后：可以發(fā)現(xiàn)，雖然EUV光刻機(jī)號(hào)稱制造業(yè)的皇冠，但其并不是完全不可突破。至少，我們已經(jīng)突破了很多技術(shù)，其中還包括最核心的那部分。“只要功夫深，鐵杵也能磨成針”，相信EUV光刻機(jī)自主早晚能夠?qū)崿F(xiàn)自主。
