中國大陸的臺積電誕生：幫華為量產(chǎn)7nm芯片，僅落后臺積電2代

近日，隨著華為Mate60、MateX5系列手機銷售，其搭載的芯片成為了全球最火的話題。

而從華為大規(guī)模銷售這些手機，很明顯可以看出來，華為是徹底攤牌，不再低調(diào)了，直接向全世界表示，已經(jīng)突破了封鎖，美國是真的卡不住了。

而按照外媒的拆解分析，這顆芯片，其實是等同于7nm工藝的，且沒有EUV痕跡，意味著是用DUV光刻機，經(jīng)多次曝光制造出來的。

至此，這顆芯片的出現(xiàn)，也可以證明一個事實，那就是中國大陸的廠商，也有了量產(chǎn)7nm芯片的能力，而目前全球也就只有4家晶圓廠有這個實力。另外三家分別是臺積電、三星、intel。

于是很多網(wǎng)友稱，這可以說是中國大陸的臺積電誕生了，畢竟已經(jīng)進入10nm以下，離的不算太遠了。

當然，如果從工藝制程來看，臺積電目前的工藝是3nm，其實較7nm工藝，也就兩代，因為中間只隔了一個5nm了。而像三星也是3nm工藝，intel目前還處于7nm。

所以如果從工藝制程來看，中國芯確實有了非常大的突破，特別是在美國的封鎖之下，因為美國之前是想要卡死中國芯在14nm的，對14nm及以下的設備全部封禁了。

不過，大家也要看到另外一個事實，那就是從14nm進入7nm，相對而言沒有想象中的那么難，因為其中最重要的光刻機，有解決辦法。

不管是28nm，還是14nm，或者7nm，都可以用浸潤式光刻機來制造，通過多次曝光后，浸潤式光刻機，最多可以量產(chǎn)7nm芯片。

但要進入5nm芯片，就完全不一樣了，以目前的技術，要進入5nm，需要用到EUV光刻機，沒有另外的辦法。

而EUV光刻機目前國內(nèi)是買不到的，所以要進入5nm，要跨過的檻更高，更難了。

但不管怎么樣，有了7nm芯片的量產(chǎn)能力后，全球可以說90%的芯片都可以生產(chǎn)了，美國是真的卡不住了，而中國大陸真的也有希望誕生出一家“臺積電”。