光刻機之父林本堅發聲，中國芯片可自主研發5納米，美國攔不住

外媒報道指早已退休的臺積電前研發副總林本堅接受采訪的時候表示，美國無法阻止中國研發先進工藝，還認為中國可以利用現有設備研發更先進的5納米工藝，他的表態讓外媒相當吃驚。

林本堅如此說法在中國的華為研發出相當于7納米工藝的麒麟9000S之后，他認為中國芯片行業展現了顯著的韌性和獨創性，因此認為中國芯片行業不會局限于7納米工藝，更可能實現5納米工藝。

林本堅被譽為浸潤式光刻機之父，當年日本壟斷了光刻機行業，佳能、尼康合計占光刻機市場近八成的市場份額，不過這兩家日本企業研發的光刻機為干式光刻機，林本堅則提出了浸潤式光刻機。

日本光刻機企業基于自己的利益并不認同林本堅的浸潤式光刻機技術，當時陷入困境的ASML找上門來，于是臺積電和ASML合作研發浸潤式光刻機，2008年ASML的浸潤式光刻機已取得主導地位，日本的光刻機產業由此迅速敗落。

與ASML的合作不僅改變了光刻機行業，臺積電也借此實現了飛躍，芯片制造工藝取得了突破，迅速成為芯片代工行業的佼佼者，林本堅由此被譽為浸潤式光刻機之父。

中國芯片行業這幾年一直受制于光刻機，在芯片制造的諸多環節除了光刻機之外都已取得宏達突破，刻蝕機更已達到5納米水平，居于全球領先水平。

這些環節的突破，證明了中國芯片行業在技術方面具有扎實的基礎，有信心有能力推進國產芯片產業鏈的發展。

正是麒麟9000S的發布，外媒認為中國在光刻機技術方面取得了重大突破，這對于外媒可謂是震驚的消息，畢竟光刻機是一款非常復雜的機器，ASML的EUV光刻機需要10萬個部件，需要全球5000家企業合作，而中國卻能僅靠自己的產業鏈實現光刻機量產。

美國也試圖借光刻機卡中國芯片的脖子，拉攏荷蘭阻止對中國出口先進的光刻機，不過隨著華為麒麟9000S的發布，荷蘭突然在9月份給ASML許可，允許ASML對中國出口更先進的2000i光刻機。

林本堅的說法，讓外媒重新認識中國芯片產業，畢竟他對光刻機的技術研發有更深刻的認識，作為臺積電前技術研發副總更是理解芯片制造過程，他對中國芯片產業的肯定更有可信性。

光刻機是現有硅基芯片技術的重要設備，硅基芯片技術由美國主導，中國在硅基芯片技術上的研發只能是跟隨，而中國也深刻明白這一點。

為了實現彎道超車，中國除了繼續研發硅基芯片技術之外，也在其他芯片技術方面推進，例如小芯片技術、量子芯片技術等，近日清華大學又公布了一項光電模擬芯片（ACCEL），都是中國芯片在新技術方面的探索。

筆者相信，中國芯片不會永遠受制于美國技術，必然在未來開辟芯片技術新路線，彎道超車有很大的可能性，到那時候中國芯片將突破美國技術的桎梏，真正形成自己的芯片技術體系，外媒因此認為美國擋不住中國芯片發展的腳步。