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              可量產0.2nm工藝!ASML公布超級EUV光刻機:但死胡同也不遠了

              2024-06-18 來源:快科技
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              關鍵詞: 英特爾 光刻機 半導體

              ASML去年底向Intel交付了全球第一臺High NA EUV極紫外光刻機,同時正在研究更強大的Hyper NA EUV光刻機,預計可將半導體工藝推進到0.2nm左右,也就是2埃米。


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              ASML第一代Low NA EUV光刻機孔徑數值只有0.33,對應產品命名NXE系列,包括已有的3400B/C、3600D、3800E,以及未來的4000F、4200G、4X00。


              該系列預計到2025年可以量產2nm,再往后就得加入多重曝光,預計到2027年能實現1.4nm的量產。


              High NA光刻機升級到了0.55,對應產品EXE系列,包括已有的5000、5200B,以及未來的5400、5600、5X00。


              它們將從2nm以下工藝起步,Intel首發就是14A 1.4nm,預計到2029年左右能過量產1nm,配合多重曝光可以在2033年前后做到0.5nm的量產,至少也能支持到0.7nm。


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              接下來的Hyper NA光刻機預計將達到0.75甚至更高,2030年前后推出,對應產品命名為HXE系列。


              ASML預計,Hyper AN光刻機或許能做到0.2nm甚至更先進工藝的量產,但目前還不能完全肯定。


              值得一提的是,單個硅原子的直徑約為0.1nm,但是上邊提到的這些工藝節點,并不是真實的晶體管物理尺寸,只是一種等效說法,基于性能、能效一定比例的提升。


              比如說0.2nm工藝,實際的晶體管金屬間距大約為16-12nm,之后將繼續縮減到14-10nm。


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              Low/High/Hyper三種光刻機會共同使用單一的EUV平臺,大量的模塊都會彼此通用,從而大大降低研發、制造、部署成本。


              不過,High NA光刻機的單臺價格已經高達約3.5億歐元,Hyper NA光刻機必然繼續大幅漲價,而且越發逼近物理極限,所以無論技術還是成本角度,Hyper NA之后該怎么走,誰的心里都沒數。


              微電子研究中心(IMEC)的項目總監Kurt Ronse就悲觀地表示:“無法想象只有0.2nm尺寸的設備元件,只相當于兩個原子寬度。或許到了某個時刻,現有的光刻技術必然終結。”


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              不久前,Intel從ASML拿到的全球第一臺高NA EUV光刻機,已經開始在美國俄勒岡州希爾斯伯勒附近的工廠內安裝了。


              這臺型號為Twinscan EXE:5000的光刻機著實是個龐然大物,運輸過程中動用了250個貨箱,總重約150噸,先用飛機從荷蘭運到俄勒岡州波特蘭,再用卡車分批次拉到工廠。


              目前安裝的還只是核心組件,全部搞定需要250多名ASML、Intel的工程師,耗時約6個月,然后還得花時間調試。


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              這臺光刻機主要作為研究之用,將會在Intel 18A節點上進行測試,但大規模量產得等到剛剛宣布的Intel 14A節點上,時間預計2025-2026年左右 。


              該光刻機可以實現8nm的分辨率,而現有低NA光刻機單次曝光只能做到13nm,同時晶體管密度幾乎可以增加3倍。


              大家非常關心的價格上,ASML的說法是大約3.8億美元,但這只是起步價,更高配置自然更貴,Intel CEO帕特·基辛格透露在4億美元左右,也就是逼近29億元。


              相比之下,低NA EUV光刻機約為1.83億美元。


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              另外,ASML公司公開表示,美國嚴厲的芯片管控規定,只會倒逼中國廠商進步更快。


              ASML CEO Christophe Fouquet表示,多年來,公司都不用擔心設備的去向會受到政治限制,但突然之間,這卻變成了全世界最重要的話題之一。


              過去一段時間,美國一直在向荷蘭施壓,以阻止中國獲得關鍵的半導體技術。去年,荷蘭政府宣布了新的半導體設備出口管制措施,主要針對先進制程的芯片制造技術,阿斯麥首當其沖。


              根據ASML今年1月1日發布的聲明,荷蘭政府撤銷的是2023年頒發的NXT:2050i和NXT:2100i光刻系統的出口許可證,“此禁令將影響少數在華客戶”。


              為進一步遏制中國的科技發展,美國日前還要求荷蘭政府對中國境內部分阿斯麥設備的維修服務增加限制。


              中國已連續三個季度成為ASML最大市場,今年第一季度,對華出口占到ASML系統銷售額的49%。


              ASML十分擔憂對華出口進一步受限。公司CEO甚至表示,限制措施會讓中國更有動力開發自己的高端技術(光刻機),“施加的限制越多,就越會促使對方自力更生”。


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              相關消息,ASML公司日前發文,悼念ASML創始人之一維姆·特羅斯(Wim Troost)離世。


              據報道,維姆·特羅斯于6月8日逝世,享年98歲。


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              ASML公司表示:“Wim Troost去世了。Wim是我們的創始元老之一,也是1987年至1990年期間的CEO,那時ASML正努力爭取其第一個客戶。退休后,Wim一直是ASML和高科技產業的真正大使。他激勵了后來的許多代人。我們感謝Wim對ASML的DNA和強大公司文化的貢獻,他的領導力、毅力和遠見。我們向Wim的家人表示慰問。”


              據了解,Wim Troost在飛利浦時期就對晶圓步進機的開發充滿熱情,他幾乎是單槍匹馬地在資源匱乏的情況下維持了項目的生命,并最終促成了飛利浦與ASM的合資,成立了ASML。


              在市場競爭激烈、公司生存艱難的時期,Wim Troost的再次出山,為ASML奠定了堅實的基礎。


              在《光刻巨人:ASML崛起之路》一書中提到,“Wim Troost從廢料堆中拯救了晶圓步進機。在二戰后的幾十年里,如果說有誰是飛利浦的代表人物,那非他莫屬。”


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