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              消息稱美光在全球范圍內加大HBM產能

              2024-06-21 來源:國際電子商情
              1966

              關鍵詞: 美光 HBM 晶圓

              據日經亞洲援引知情人士稱,美光正在美國建設先進高帶寬內存芯片(HBM)的測試生產線,并首次考慮在馬來西亞生產HBM,以滿足人工智能熱潮帶來的更多需求。


              在2023年10月,美光在馬來西亞檳城的第二座智能(尖端組裝與測試)工廠落成開業, 該工廠初期投入了10億美元,在第一座工廠建成后,再加碼10億美元擴建第二座智慧廠房,將工廠建筑面積擴充至150萬平方尺。


              美光科技全球組裝與測試營運高級副總裁古沙蘭辛格(Gursharan Singh)頃于慶祝該公司45周年紀念及第二座智慧廠房開幕儀式后表示,馬來西亞是美光科技最關鍵之投資據點,該集團計劃于未來幾年內,全面裝備新廠房,以提高馬國美光科技之生產率,并加強其組裝與測試能力,提供先進的NAND、PCDRAM及SSD模組,以滿足人工智慧與電動車等不斷成長之需求。


              近年來,人工智能服務器以及人工智能應用的爆炸式增長,HBM得到迅速采用,推動了內存領域前所未有的產能增長。作為回應,領先的 DRAM 制造商正在增加對 HBM/DRAM 的投資。SEMI 最新《世界晶圓廠預測》季度報告中,預計 2024 年和 2025 年 DRAM 容量都將增長 9%。


              英偉達對美光HBM的需求旺盛。根據市場研究機構Yole的預測,僅英偉達一家對HBM的需求在未來幾年內就有望超過百億美元。此外,美光宣布其最新的HBM3E產品將用于英偉達的H200 Tensor Core GPU。


              英偉達是臺積電的大客戶之一,臺積電新任董事長魏哲家此前就抱怨過英偉達的產品太貴,魏哲家表示:“我們希望我們的客戶能與我們分擔一些更高的成本,我們已經開始與客戶進行討論。”黃仁勛也認為臺積電漲價是合理的。TrendForce稱,臺積電在AI應用、PC新平臺等HPC應用及智能手機高端新品推動下,5/4nm及3nm呈滿載,今年下半年產能利用率有望突破100%,且能見度已延伸至2025年。


              為滿足英偉達大量的HBM產能需求,美光和SK海力士的HBM產能已經排到2025年底。英偉達正在對三星和美光科技的HBM進行資格認證。今年5月,路透社報道,三星電子最新的HBM芯片尚未通過英偉達測試。不過,黃仁勛在 2024 臺北國際電腦展上,表示仍在認證三星公司的 HBM 內存,否認三星 HBM 未通過英偉達測試,并表示認證三星 HBM 需要更多工作和耐心。


              報道稱,美光計劃在2025年將HBM領域的市場份額快速提升至約20%,以匹配其在DRAM行業整體營收中的份額。消息人士透露,美光正在其位于美國愛達荷州博伊西的總部擴建與HBM相關的研發生產設施,這包括技術驗證產線和量產線。


              美國拜登政府已經宣布,美光獲得了美國商務部提供的 61.4 億美元的直接資金補貼,這些資金將幫助美光將40%的動態隨機存取存儲器(DRAM)產能轉移到美國。


              援引路透社消息稱,這項投資將推動美光公司在紐約州中部實施其價值 1000 多億美元的四座晶圓廠項目,預計創造 50,000 個就業崗位。


              據了解,美光會先在紐約建設兩座領先的動態隨機存取存儲器 (DRAM) 工廠,這是美光在未來20年內投資約 1000 億美元的長期投資計劃的第一步。該資金還將支持美光在愛達荷州的 DRAM 工廠投資250億美元,該工廠將與美光在博伊西的研發設施位于同一地點。


              美光也在日本擴產,美光獲得日本政府半導體補助后,就宣布將在日本廣島縣投資6,000億至8,000億日圓(約38億至51億美元),興建一座采用極紫外光(EUV)微影制程的先進DRAM晶片廠,最快2026年初動工,2027年底開始營運。


              美光打算在日本增設的新廠,最初預定日本新廠在今年之前開始營運,明年之前開始生產先進DRAM芯片,同時進行HBM芯片研發,但前兩年存儲芯片市況低迷讓日本建廠計劃暫停,直到近日才重啟計劃。


              資金方面,日本政府將提供1,920億日圓補助,其中1,670億日圓直接補助先進DRAM生產,占美光對廣島廠生產線投資額的三分之一。日本政府將其余250億日圓補助款用來協助美光推動新一代芯片研發,占美光廣島廠研發經費的二分之一。


              據TrendForce報道,美光在廣島的新工廠位于現有的Fab 15附近,專注于 DRAM 生產,不包括后端封裝和測試,并將重點放在 HBM 產品上。


              美光科技廣島新工廠將率先采用極紫外 (EUV) 光刻設備,生產中國臺灣和日本合作開發的新型先進 1-Gamma 工藝 DRAM。隨后,該工廠還將過渡到 1-Delta 工藝,從而大幅增加 EUV 工具的使用量和更高的潔凈室設施。


              至于位于廣島的Fab 15,則是HBM的量產基地,負責前端晶圓生產和硅通孔(TSV)工藝,而后端堆疊和測試工藝則由中國臺灣臺中后端工廠負責。TechNews援引的市場報告表明,由于HBM需求不斷增長,美光在臺灣的工廠將從明年開始投入HBM生產和TSV工藝。


              由于美光需要加速滲透HBM市場,且2025年產能已被客戶滿訂,興建新廠勢在必行,并計劃在2025年維持HBM產品線市占率20%至25%,爭取追平傳統DRAM的水平。



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