<blockquote id="y1r4z"></blockquote>
      • <blockquote id="y1r4z"><progress id="y1r4z"></progress></blockquote>
            1. 日韩成人无码毛片,中文字幕一区二区三区擦澡,jizz免费,www.com黄色,多p在线观看,69国产,探花无码,上海集散中心旅游官网订票
              歡迎訪問深圳市中小企業公共服務平臺電子信息窗口

              Vishay推出先進的30 V N溝道MOSFET,進一步提升隔離和非隔離拓撲結構功率密度和能效

              2021-05-26 來源:21IC電子網
              4911

              賓夕法尼亞、MALVERN — 2021年5月25日 — 日前,Vishay Intertechnology, Inc.推出多功能新型30 V n溝道TrenchFET第五代功率MOSFET---SiSS52DN,提升隔離和非隔離拓撲結構功率密度和能效。Vishay Siliconix SiSS52DN采用熱增強型3.3 mm x 3.3 mm PowerPAK? 1212-8S封裝,10 V條件下導通電阻僅為0.95 mW,比上一代產品低5 %。此外, 4.5 V條件下器件導通電阻為1.5 mW,而4.5 V條件下導通電阻與柵極電荷乘積,即MOSFET開關應用重要優值系數(FOM)為29.8 mW*nC,是市場上優值系數最低的產品之一。

              SiSS52DN的FOM比上一代器件低29 %,從而降低導通和開關損耗,節省功率轉換應用的能源。

              SiSS52DN適用于同步整流、同步降壓轉換器、DC/DC轉換器、開關柜拓撲結構、OR-ring FET低邊開關,以及服務器、通信和RF設備電源的負載切換。MOSFET可提高隔離和非隔離拓撲結構的性能,簡化設計人員兩種電路的器件選擇。器件經過100 % RG和UIS測試,符合RoHS標準,無鹵素。