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              存儲巨頭,萬億投資落地中國

              2026-03-26 來源:國際電子商情
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              關鍵詞: 三星電子 SK海力士 生產基地 AI存儲 投資

              全球AI浪潮推動存儲需求爆發,韓國兩大存儲巨頭三星電子與SK海力士也同步加大了中國核心生產基地投資,希望通過合計超1.5萬億韓元(約78億元人民幣)的投資,提升工藝,優化產能,鞏固企業全球優勢的同時,也對接中國高端存儲的需求。

              三星電子將投資重點放在西安工廠——其唯一海外NAND生產基地,承擔三星全球NAND產能的40%以上,也是全球單個產能最高的NAND閃存工廠。據韓國金融監督院近日發布的數據顯示,2024年重啟對華投資后,三星投入持續加碼,2025年向西安工廠投資4654億韓元(約21.4億元人民幣),較上年的2778億韓元同比增長67.5%。

              此次投資核心是推進工藝迭代,將主力制程從128層(第六代)NAND升級至236層(第八代)NAND,同時啟動X2產線向280層V9 NAND轉換,計劃2026年二季度落地。得益于2026年美國商務部設備進口年度許可,三星有效規避審批風險,升級后西安工廠將聚焦AI服務器、企業級SSD等高附加值產品,成為其全球高端NAND核心基地。

              SK海力士采取無錫DRAM、大連NAND雙基地并行升級策略,2025年對華投資超1萬億韓元,為2022年收購英特爾大連工廠后首次萬億級大規模投入。其中,無錫工廠獲5810億韓元投資,同比增長102%,已完成1z工藝(第三代10nm級)向1a工藝(第四代)升級,90%產能完成轉換,可量產DDR5、LPDDR5X等高規格產品,該工廠承擔SK海力士全球30%至40%的DRAM產能,升級后成為高端DRAM核心基地,優先保障AI數據中心需求。

              大連NAND工廠投資4406億韓元,增長52%,新增資金主要用于產能升級與技術研發,聚焦高端存儲芯片生產以匹配AI、數據中心需求,正推進321層第九代NAND產線轉換。針對EUV設備限制,SK海力士采用“分段制造”策略,將關鍵光刻步驟放在韓國本土完成,再將晶圓運回無錫進行后續工序,破解技術管制難題。

              雙巨頭加碼中國工廠,核心驅動力源于AI技術演進推動高性能存儲需求激增,2026年全球DRAM與NAND計劃產量近乎售罄。中國作為全球最大存儲芯片消費市場,2025年規模達4580億元人民幣,同比增長7.3%,AI基礎設施投資持續加碼,供需缺口顯著。

              瑞銀證券預測,2026年全球半導體市場規模將同比增長超40%至1萬億美元,這一增長主要受存儲漲價驅動,中國市場潛力成為巨頭布局的重要支撐。

              戰略層面,業內人士指出,出于保護核心技術的考慮,海外工廠工藝通常較韓國本土落后約兩代,但此次兩大巨頭直接切入第八代、第九代先進制程,既規避本土擴產風險,又能快速響應亞太市場需求。同時,中國擁有完整半導體產業鏈,可實現“本地化生產供應”,縮短交付周期,疊加產業扶持政策,為投資提供穩定預期。

              展望未來,2026年二季度將是投資關鍵節點,三星西安X2產線、SK海力士先進NAND產線轉換將逐步落地,全年持續推進設備導入與產能爬坡。在AI浪潮與產業鏈重構驅動下,兩大巨頭的中國布局,將推動中國成為全球半導體產業重要增長引擎與創新中心。