與ASML相比，國產(chǎn)光刻機，達到了什么水平？

眾所周知，在芯片的制造過程中，光刻機是最重要且必不可少的一種設(shè)備，從成本來看，光刻機占所有芯片制造設(shè)備的22％左右。

成本高，占比重還在其次，最重要的是，全球能夠制造光刻機的廠商并不多，也就那么幾家，而用于10nm以下工藝的EUV光刻機，全球只有ASML一家能造。

這問題就嚴重了，意味著所有想生產(chǎn)10nm以下芯片的廠商，必須找ASML買光刻機，買不到的話，在當(dāng)前的技術(shù)條件下，就無法進入到10nm，這才是問題的根本。

因為大家都懂的原因，我們是找ASML買不到EUV光刻機的，所以大家都明白，國產(chǎn)光刻機必須崛起，否則中國芯片產(chǎn)業(yè)無法崛起。

那么問題就來了，目前國內(nèi)的光刻機水平，究竟什么樣了，與ASML相比，究竟差距有多大？

先說說全球的光刻機格局，目前全球光刻機市場基本都由荷蘭ASML、日本尼康和佳能公司完全壟斷，而國內(nèi)的上海微電子產(chǎn)的光刻機，市場占有率基本可以忽略，特別是在芯片制造光刻機這一塊，更多用于封測、光刻膠生產(chǎn)等領(lǐng)域。

2020年，這三大廠商出貨光刻機413臺，增長15％。ASML占258臺，比例為62．47％；尼康31臺，比例為7．51％；佳能公司122臺，比例29．54％。

而7nm及以下的EUV光刻機，只有ASML能生產(chǎn)。尼康的水平是生產(chǎn)浸入式光刻機，標稱精度是28nm，經(jīng)多重曝光，一般最多也只用于14nm。

而佳能生產(chǎn)的光刻機，標稱精度是90nm，經(jīng)多重曝光，最多也只用到28nm左右，這就是這三大光刻機廠商的情況。

而國內(nèi)最牛的是上海微電子，已公開量產(chǎn)的光刻機標稱精度是90nm，經(jīng)多重曝光，最多也只用到28nm，與佳能一致，但事實上沒人多重曝光這么來干，因為多重曝光會良率顯著降低，導(dǎo)致成本飆升。

但之前有媒體報道稱，上海微電子已經(jīng)在生產(chǎn)28nm的光刻機，多重曝光光后生產(chǎn)7nm芯片，預(yù)計在2021－2022年交付，但沒具體的報道，所以不能亂說。

所以當(dāng)前國內(nèi)明面上的光刻機水平就是90nm，就算多重曝光，最多也就是28nm，考慮到ASML的DUV光刻機是不受限的， 估計沒誰買90nm的，來生產(chǎn)28nm。所以，差距真的是非常非常大。

事實上，EUV光刻機一共有10多萬個零件，而ASML有5000多供應(yīng)商，可見要生產(chǎn)一臺EUV光刻機，真的不容易，但再難，這個關(guān)我們也必須沖過去。