臺積電2nm工藝計劃2025年量產(chǎn) 工廠投資可能超過360億美元

12月28日消息，據(jù)國外媒體報道，計劃在明年下半年量產(chǎn)3nm工藝的臺積電，也在按計劃推進2nm工藝的研發(fā)及量產(chǎn)事宜，工廠的建設(shè)已經(jīng)提上了日程，從外媒的報道來看，臺積電方面已在考慮2nm工藝工廠的選址。

從外媒的報道來看，包括CEO魏哲家在內(nèi)的多位臺積電高管，在上周出人意料的到訪了中部科學工業(yè)園區(qū)，同相關(guān)人員會面，隨后就有報道稱臺積電計劃在中部科學工業(yè)園區(qū)建設(shè)2nm工藝的芯片生產(chǎn)工廠。

外媒在報道中提到，臺積電計劃建設(shè)2nm工藝工廠的地方，目前是一處高爾夫球場，靠近中部科學工業(yè)園區(qū)，由一個企業(yè)集團所擁有，有大量的土地可供利用。

在報道中，外媒還提到，相關(guān)人士透露，臺積電這一工廠的投資將會相當龐大，一旦開始建設(shè)，整個項目的投資可能接近1萬億新臺幣，也就是約361.5億美元。

就工廠的投資而言，臺積電計劃建設(shè)的2nm工藝芯片工廠，遠高于目前5nm工藝的芯片代工廠。臺積電去年5月15日宣布在美國亞利桑那州建設(shè)的5nm工藝工廠，計劃的投資是120億美元。2nm工藝工廠的投資若達到360億美元，就將是亞利桑那州工廠投資的3倍。

臺積電2nm工藝工廠的投資遠高于亞利桑那州的5nm工藝工廠，可能有規(guī)模更大和需要更多、更先進的設(shè)備的原因，亞利桑那州工廠計劃的月產(chǎn)能只有20000片晶圓。規(guī)模更大，產(chǎn)能更高，需要的先進設(shè)備，尤其是極紫外光刻機也就更多，投資自然也就更高。

從外媒的報道來看，臺積電的5nm工藝，是計劃在2025年大規(guī)模量產(chǎn)。在10月14日的三季度財報分析師電話會議上，魏哲家已透露了相關(guān)的信息。當時在回答分析師的問題時，魏哲家就提到，他們的2nm工藝，2025年在性能和晶體管的密度方面將是最具競爭力的。